书目详细信息
： 极紫外光刻
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 978-7-5478-5721-2:CNY128.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi eng |
| 出版国别： | CN 310000 |
| 题名责任者项： | 极紫外光刻/.(美) 哈利·杰·莱文森著/.Harry J. Levinson/.高伟民译 |
| 出版发行项： | 上海:,上海科学技术出版社:,2022.09 |
| 载体形态项： | 206页:;+图 (部分彩图):;+24cm |
| 一般附注： | 元基石 |
| 提要文摘： | 本书是一本论述极紫外光刻技术的最新的专著, 该书全面而又精炼地介绍了极紫外光刻技术的各个方面及其发展历程, 内容不但涵盖极紫外光源、极紫外光刻曝光系统、极紫外掩模板、极紫外光刻胶、极紫外计算光刻等技术内容, 还介绍了极紫外光刻生态系统的其他方面, 如极紫外光刻工艺特点和工艺控制, 极紫外光刻量测的特殊要求, 以及对技术发展路径有着重要影响的极紫外光刻的成本分析等内容, 最后作者还讨论了满足未来的芯片工艺节点要求的极紫外光刻技术发展方向。 |
| 题名主题： | 紫外线 光刻系统 研究 |
| 索书号： | TN305.7/L17 |
| 中图分类： | TN305.7 |
| 个人名称等同： | 莱文森 H. J. 著 |
| 个人名称次要： | 高伟民 译 |
| 记录来源： | CN 人天书店 20221012 |