| ISBN/价格: | 978-7-5130-9741-3:CNY99.00 |
|---|---|
| 作品语种: | chi |
| 出版国别: | CN 110000 |
| 题名责任者项: | 知识产权法律制度研究/.国家知识产权局条法司编 |
| 出版发行项: | 北京:,知识产权出版社:,2025.03 |
| 载体形态项: | 248页:;+图:;+23cm |
| 提要文摘: | 本书分专利制度、商标制度、集成电路布图保护设计制度、其他4个专题, 汇编15篇文章, 围绕近年来知识产权领域的热点问题展开研究。相关文章是知识产权各相关领域的最新研究成果, 涉及职务科技成果长期使用权、图形用户界面法律保护、强化商标使用义务、禁止商标重复注册制度、集成电路布图设计中的独创性说明制度、知识产权基础性法律立法可行路径、商业秘密保密措施认定规则等, 可以为从事知识产权法律制度研究的人员提供借鉴和参考。 |
| 题名主题: | 知识产权法 中国 文集 |
| 索书号: | D923.404/G95.3-4/2024 |
| 中图分类: | D923.404 |
| 团体名称等同: | 国家知识产权局条法司 编 |
| 记录来源: | CN 人天书店 20250430 |