书目详细信息
： 氧化铝衬底上金刚石的厚膜生长及其微电子学应用研究
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 7-81058-898-2:CNY260.00 (全套) |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 310000 |
| 题名责任者项： | 氧化铝衬底上金刚石的厚膜生长及其微电子学应用研究/.作者方志军 |
| 出版发行项： | 上海:,上海大学出版社:,2006 |
| 载体形态项： | 126页:;+图:;+21cm |
| 丛编项： | 2003年上海大学博士学位论文 |
| 提要文摘： | 全书共六章。内容包括：氧化铝衬底的碳离子预注入、实验过程及成核分析、金刚石的厚膜生长及应力分析等。 |
| 题名主题： | 金刚石 薄膜 复合材料 研究 |
| 题名主题： | 氧化铝陶瓷 复合材料 研究 |
| 索书号： | TB34/F35 |
| 中图分类： | TB34 |
| 中图分类： | TQ174.75 |
| 个人名称等同： | 方志军 著 |
| 记录来源： | CN CEPC1 20060724 |
| 记录来源： | CN 20060927 |